Titanmål

Renhet
Renhet er en av de viktigste ytelsesindikatorene på målet, fordi målets renhet har stor innflytelse på ytelsen til filmen . Imidlertid, i praktiske anvendelser, er renhetskravene for målet ikke den samme . for eksempel med den hurtige utviklingen av mikroelektronikkindustrien, fra silic -størrelsen har blitt utviklet med den hurtige utviklingen av mikroelektronikkindustrien, fra den silic -størrelsen har blitt utviklet med den hurtige utviklingen for målet for målet er ikke den samme {{{{{1 {1 {{ 0 {{11 @
Urenhetsinnhold
Urenheter i målfaststoffer og oksygen- og vanndamp i porer er de viktigste forurensningskildene til avsatte filmer . mål for forskjellige formål har forskjellige krav til forskjellige urenhetsinnhold . For eksempel har 2 {aluminium og aluminium legeringsinnholdet som brukes i halvdelen {{°
Tetthet
For å redusere porøsiteten i målet fast stoff og forbedre ytelsen til den sputrede filmen, er målet vanligvis påkrevd for å ha en høy tetthet . tettheten til målet ikke bare påvirker sputringshastigheten, men påvirker også den elektriske og optiske egenskapen til filmen {{{ Tetthet og styrke til målet gjør målet bedre i stand til å motstå termisk stress under sputtering . tetthet er også en av nøkkelytelsesindeksene til målmaterialet .